姓名：栾晓东  性别：男

职称：副教授

学历学位：博士研究生

研究方向：功能半导体材料表面超精密加工、集成电路智能装备制造工艺研究

个人简介：

栾晓东，男，汉族，1988年11月生，中共党员，博士。2017年6月从河北工业大学电子科学与技术专业博士研究生毕业。主要研究方向为功能半导体材料表面超精密加工、集成电路智能装备制造工艺研究。在研纵向项目包括主持国家自然科学青年基金、江苏省科技厅自然科学青年基金、江苏省教育厅面上项目，参与企业技术合作，横向经费100余万；发表学术论文10余篇；作为核心成员参与国家02重大专项等国家级项目多项，入选江苏省双创博士（科技副总类）计划、连云港花果山英才计划（双创博士）、连云港市521高层次人才培养工程等人才工程。

承担主要项目：

（1）国家自然科学基金，面向14nm及以下节点无磨料铜化学机械抛光新方法及关键材料的研究（62104087），2022-2024，主持

（2）江苏省自然科学基金，无磨料铜化学机械抛光液中大分子螯合剂的作用及其稳定性研究（BK20191005），2019-2022，主持

（3）连云港花果山英才，集成电路3D封装硅通孔（TSV，Through Silicon Vias）制造及其工艺（KK19048），2019-2020，主持

（4）江苏省高校自然科学基金面上项目，：无磨料铜抛光液中大分子螯合剂作用及其稳定性的研究（19KJB43001I），2019-2021，主持

近五年发表论文：

（1）Xiaodong Luan, Xu Ke, Gao Chao, Zhang Zhen, Zhang Ruoyu, Liu Yuling. A High Antibacterial Weakly Alkaline Barrier Slurry with the Tunable Selectivity[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology,2021,10(4)：044005.

（2）栾晓东,徐克,张震,张若雨.基于新型抛光液研究工艺参数对片内非均匀性的影响[J].微纳电子技术, 2021, 58(9): 845-849.

（3）Xiaodong Luan, Jia li Cheng, Yu ling Liu, Chenwei Wang. Effect of Complexing Agent Choices on Dishing Control Level and the Shelf Life in Copper CMP Slurry[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018, 7(8): 391-396.

（4） Xiaodong Luan, Yuling Liu, Baoguo Zhang, Shengli Wang, Xinhuan Niu, Chenwei Wang, Juan Wang. Investigation of the barrier slurry with better defect performance and facilitating post-CMP cleaning[J]. Microelectronic Engineering, 2017, 170: 21-28.

（5）Xiaodong Luan, Yuling Liu, Chenwei Wang, Xinhuan Niu, Juan Wang, Wenqian Zhang. A study on exploring the alkaline copper CMP slurry without inhibitors to achieve high planarization efficiency[J]. Microelectronic Engineering, 2017, 160: 5-11.

联系方式：

电子邮箱：luanyz1988@126.com

（2022年7月更新）